聯邦檢察官表示，上週，四名前科技高管被控竊取矽谷半導體晶片設備製造商商業機密。11月30日，Liang Chen、Donald Olgado、Wei-Yung Hsu和Robert Ewald被控從總部在Santa Clara的Applied Materials竊取機密。

2012年9月受雇於Applied Materials期間，這四名男子開始合謀竊取公司部分商業機密，並在一家會與Applied Materials存在競爭關係的新公司使用。

起訴書說，他們所竊取商業機密與半導體晶片高量製造有關。

這些晶片用於照明和平板電視、智慧手機等電子產品。

據檢察官，這項技術研發歷經多年研究和測試並耗資數百萬元。

檢察官說，被告涉嫌從一個機密Applied Materials工程資料庫下載與這項秘密技術有關的資訊。

這些資訊包括16000多幅繪圖。這四名男子在電郵上討論他們在一家將在美國和中國運營的初創公司使用這項技術的計畫。

檢方稱，他們還涉嫌試圖尋求投資者為他們的新公司提供資金。

上述四人每人均被指控一項陰謀竊取商業機密罪名和十一項竊取商業機密罪名。

在Applied Materials期間，現年52歲Saratoga居民Chen擔任公司副總裁和替代能源產品部門總經理；54歲Palo Alto人Olgado擔任產品商業集團工程管理董事；57歲San Jose人Hsu擔任副總裁和半導體部門總經理；60歲Aptos人Ewald擔任替代能源產品部門能源和環境系統負責人。

上述四人目前無一人就職Applied Materials。他們的傳訊定於12月15日。