四名矽谷高管被控共謀竊取半導體機密

四名矽谷高管被指控,涉嫌從他們的雇主,一家未指出名字的半導體製造商竊取商業機密。聯邦司法部指控Saratoga的Liang Chen、Palo Alto的Donald Olgado、San Jose的Wei-Yung Hsu以及Aptos的Robert Ewald,涉嫌共謀將竊取的機密,利用在一家總部在美國與中國大陸的初創公司上,而這些機密技術可用在照明和電子設備中,所用到的半導體晶片的大批量生產上。

被竊的公司名字並未在起訴書中出現,但根據公開記錄顯示,四人於2012年左右,也就是指控犯罪的時間,受雇於Santa Clara的Applied Materials Inc.。據起訴書所述,他們從其雇主的內部機密工程數據庫下載了技術資料,包括一萬六千多張圖紙。他們還互相通信描述他們的計畫,要將這些技術用在一家新公司,以吸引投資客提供資金。

他們每人被指控一項共謀竊取商業機密,與十一項持有被竊商業機密。若被定罪,可能面對每項指控最高十年徒刑,以及廿五萬元的罰鍰。

Leave a Reply

This site uses Akismet to reduce spam. Learn how your comment data is processed.